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ArF光刻胶

产品应用
                                                                                                                                
集成电路：
-28-90nm技术节点
-逻辑、存储、功率器件
-poly，gate，contact，via，metal等工艺层制作


产品特点
                                                                                                                                

-分辨率：65-130nm
-高分辨，高对比度，宽工艺窗口





产品参数
产品详情


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集成电路用先进封装光刻胶 晶圆制造用KrF光刻胶
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