KrF光刻胶

产品应用

                                                                                                                        

集成电路：

-28-180nm技术节点

-逻辑、存储、功率器件

-poly，gate，contact，via，metal等工艺层制作

产品特点

                                                                                                                        

- 分辨率：0.15-0.25μm

- 膜厚：0.4-2μm

- 高深宽比，耐刻蚀，耐离子注入，高感光度